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荷蘭限制向內地出口DUV光刻機
荷蘭外貿部長周三發給議員的信函，荷蘭政府擬提議限制浸沒式DUV光刻機的出口，部長Liesje Schreinemacher在信中說，「荷蘭認為，基於國家和國際安全的理由，有必要儘早控制這項技術」。預計該規定將在夏季前公布。
該類產品是生產全球最先進晶片的關鍵，是較極紫外光刻低一檔的產品。
光刻機公司ASML周三在另一份聲明中表示 ，這些措施將「不會對2023年或更長時期的財務展望產生重大影響」。但該公司稱，其最先進的DUV系統需要申請出口許可。「重要的是要考慮到額外的出口管制並不適用於所有浸沒式光刻工具，而是只針對『最先進的』工具」，ASML表示。該公司稱尚未就所謂「最先進」的確切定義獲得指導意見。
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